2015/9/1 8:58:26
半导体行业晶圆清洗中测量动态表面张力的优势
在生产和处理硅晶圆时，盘必须绝对洁净。因此，晶圆的表面处理工艺造成的污染必须要在清洁工序之后去除。为了满足这些高的清洁度要求，清洗剂的浓度一定要保持在适当的浓度范围之内。>>阅读全文
2015/9/1 9:19:08
半导体行业中晶圆切割工艺中液体质量的监测
当切割晶片时，一种特殊的处理液会用于冷却工作时的的锯片，来润滑和移除产生的颗粒。为了让锯片和研磨盘的润湿达到最优状态，在处理液中要必须加入表面活性剂。SITA表面张力仪可以在短短几秒钟完成测量，所以我们可以将实际值和期望值迅速的作比较。这样在产生偏差的情况下，可以及时的找到解决方法。>>阅读全文
2017/10/11 14:17:37
四甲基氢氧化铵溶液表面张力测试
四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液，在晶片生产中用作CMP(化学机械抛光)预清洗剂，或在半导体领域的光刻工艺中作为显影剂。为了完全润湿晶片表面，通常会在TMAH溶液中加入表面活性剂以降低其表面张力。确保一个稳定且不与表面几何形状相关的蚀刻过程。>>阅读全文
德国SITA公司于1996年创立。SITA的名字来源于希腊字母Sigma和TheTA――它们是表面张力和温度的国界符号，是液体的两个物理特性，现在它已经成为源自德国的新颖、易用的仪器设备的代名词。
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